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文献
J-GLOBAL ID：201302287080900920
整理番号：13A0895835
金属基板上の非晶質シリコンのエキシマレーザ結晶化
Excimer laser crystallization of amorphous silicon on metallic substrate
DELACHAT F.
(Centre National de la Rech. Scientifique/Universite de Strasbourg, Inst. d’Electronique du Solide et des Systemes ...)
,
ANTONI F.
(Centre National de la Rech. Scientifique/Universite de Strasbourg, Inst. d’Electronique du Solide et des Systemes ...)
,
SLAOUI A.
(Centre National de la Rech. Scientifique/Universite de Strasbourg, Inst. d’Electronique du Solide et des Systemes ...)
,
CAYRON C.
(Commissariat a l’Energie Atomique, Lab. d’Innovation pour les Technologies des Energies Nouvelles, 17 rue des ...)
,
DUCROS C.
(Commissariat a l’Energie Atomique, Lab. d’Innovation pour les Technologies des Energies Nouvelles, 17 rue des ...)
,
LERAT J.-F.
(EXCICO Group NV, Kempische Steenweg 305/2, 3500, Hasselt, BEL)
,
EMERAUD T.
(EXCICO Group NV, Kempische Steenweg 305/2, 3500, Hasselt, BEL)
,
NEGRU R.
(EXCICO France, 30 Rue Alexandre Bat. D, 92230, Gennevilliers, FRA)
,
HUET K.
(EXCICO France, 30 Rue Alexandre Bat. D, 92230, Gennevilliers, FRA)
,
REYDET P.-L.
(Aperam Alloys Imphy, BP1, 58160, Imphy, FRA)
資料名：
Applied Physics. A. Materials Science & Processing
(Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻： 111 号： 3 ページ： 807-812 発行年： 2013年06月
JST資料番号： D0256C ISSN： 0947-8396 CODEN： APHYCC 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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