文献
J-GLOBAL ID:201302287387957288
整理番号:13A1567245
マイクロ構造を用いた酸窒化シリコンスパッタ膜のYoung率と残留応力の特性評価
Characterization of the Young’s modulus and residual stresses for a sputtered silicon oxynitride film using micro-structures
著者 (4件):
DONG Jian
(Key Lab. of Special Purpose Equipment and Advanced Manufacturing Technol., Ministry of Education, Zhejiang Univ. of ...)
,
DONG Jian
(Dep. of Mechanical Engineering, Boston Univ., Boston, MA 02215, USA)
,
DU Ping
(Dep. of Mechanical Engineering, Boston Univ., Boston, MA 02215, USA)
,
ZHANG Xin
(Dep. of Mechanical Engineering, Boston Univ., Boston, MA 02215, USA)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
545
ページ:
414-418
発行年:
2013年10月31日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)