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文献
J-GLOBAL ID：201302287387957288
整理番号：13A1567245
マイクロ構造を用いた酸窒化シリコンスパッタ膜のYoung率と残留応力の特性評価
Characterization of the Young’s modulus and residual stresses for a sputtered silicon oxynitride film using micro-structures
DONG Jian
(Key Lab. of Special Purpose Equipment and Advanced Manufacturing Technol., Ministry of Education, Zhejiang Univ. of ...)
,
DONG Jian
(Dep. of Mechanical Engineering, Boston Univ., Boston, MA 02215, USA)
,
DU Ping
(Dep. of Mechanical Engineering, Boston Univ., Boston, MA 02215, USA)
,
ZHANG Xin
(Dep. of Mechanical Engineering, Boston Univ., Boston, MA 02215, USA)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 545 ページ： 414-418 発行年： 2013年10月31日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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