文献
J-GLOBAL ID:201302287878431890
整理番号:13A1328777
200J高速小型高密度プラズマ・フォーカス装置からのネオンの軟X線放出物の最適化:軟X線リソグラフィーの潜在源
Optimization of neon soft X-rays emission from 200 J fast miniature dense plasma focus device: A potential source for soft X-ray lithography
著者 (5件):
KALAISELVI S.M.P.
(Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP)
,
TAN T.L.
(Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP)
,
TALEBITAHER A.
(Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP)
,
LEE P.
(Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP)
,
RAWAT R.S.
(Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP)
資料名:
Physics Letters. A
(Physics Letters. A)
巻:
377
号:
18
ページ:
1290-1296
発行年:
2013年
JST資料番号:
C0600B
ISSN:
0375-9601
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)