文献
J-GLOBAL ID:201302289215252870
整理番号:13A0829282
ALD処理Al2O3薄膜層における漏れ電流の領域
Regimes of leakage current in ALD-processed Al2O3 thin-film layers
著者 (6件):
SPAHR Holger
(Technische Univ. Braunschweig, Braunschweig, DEU)
,
REINKER Johannes
(Technische Univ. Braunschweig, Braunschweig, DEU)
,
BUELOW Tim
(Technische Univ. Braunschweig, Braunschweig, DEU)
,
NANOVA Diana
(Technische Univ. Braunschweig, Braunschweig, DEU)
,
JOHANNES Hans-Hermann
(Technische Univ. Braunschweig, Braunschweig, DEU)
,
KOWALSKY Wolfgang
(Technische Univ. Braunschweig, Braunschweig, DEU)
資料名:
Journal of Physics. D. Applied Physics
(Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻:
46
号:
15
ページ:
155302,1-5
発行年:
2013年04月17日
JST資料番号:
B0092B
ISSN:
0022-3727
CODEN:
JPAPBE
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)