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文献
J-GLOBAL ID:201302289855342825   整理番号:13A1016476

金属アシスト化学エッチングにより作製したシリコンナノワイヤアレイの光学的評価

Optical assessment of silicon nanowire arrays fabricated by metal-assisted chemical etching
著者 (10件):
KATO Shinya
(Tokyo Inst. of Technol., Dep. of Physical Electronics, 152-8552, Meguro-ku, Tokyo, JPN)
KUROKAWA Yasuyoshi
(Tokyo Inst. of Technol., Dep. of Physical Electronics, 152-8552, Meguro-ku, Tokyo, JPN)
KUROKAWA Yasuyoshi
(PRESTO, Japan Sci. and Technol. Agency (JST), 332-0012, Honcho, Kawaguchi, Saitama, JPN)
WATANABE Yuya
(Tokyo Inst. of Technol., Dep. of Physical Electronics, 152-8552, Meguro-ku, Tokyo, JPN)
YAMADA Yasuharu
(Tokyo Inst. of Technol., Dep. of Physical Electronics, 152-8552, Meguro-ku, Tokyo, JPN)
YAMADA Akira
(Tokyo Inst. of Technol., Dep. of Physical Electronics, 152-8552, Meguro-ku, Tokyo, JPN)
YAMADA Akira
(Tokyo Inst. of Technol., Photovoltaics Res. Center (PVREC), 152-8552, Tokyo, JPN)
OHTA Yoshimi
(Nissan Res. Center, Advanced Materials Lab., 237-8523, Kanagawa, Yokosuka, JPN)
NIWA Yusuke
(Nissan Res. Center, Advanced Materials Lab., 237-8523, Kanagawa, Yokosuka, JPN)
HIROTA Masaki
(Nissan Res. Center, Advanced Materials Lab., 237-8523, Kanagawa, Yokosuka, JPN)

資料名:
Nanoscale Research Letters (Web)  (Nanoscale Research Letters (Web))

巻:号:ページ: 1-6  発行年: 2013年12月 
JST資料番号: U7001A  ISSN: 1931-7573  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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