文献
J-GLOBAL ID:201302290431237590
整理番号:13A0811176
Applied Materials VIISta高電流注入装置上でのホウ素注入のための四フッ化二ホウ素(B2F4)のビーム電流改善と線源寿命性能
Beam current improvement and source life performance of diboron tetrafluoride (B2F4) for boron implantation on applied materials VIISta high current implanters
著者 (5件):
TANG Ying
(ATMI, Inc., CT, USA)
,
BASSOM Neil J.
(Applied Materials Inc., MA, USA)
,
YOUNG James
(Applied Materials Inc., MA, USA)
,
SWEENEY Joseph
(ATMI, Inc., CT, USA)
,
RAY Richard
(ATMI, Inc., CT, USA)
資料名:
AIP Conference Proceedings
(AIP Conference Proceedings)
巻:
1496
ページ:
386-389
発行年:
2012年
JST資料番号:
D0071C
ISSN:
0094-243X
資料種別:
会議録 (C)
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)