前のページに戻る この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写(冊子体のコピー)をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID:201302290572060830   整理番号:13A1758443

高出力化: 多重パターン形成と450nmウエハリソグラフィーの両方に必要な120W注入同期ArFエキシマレーザ

Power up: 120 Watt injection-locked ArF excimer laser required for both multi-patterning and 450mm wafer lithography
著者 (9件):
ASAYAMA Takeshi
(Gigaphoton Inc.)
SASAKI Yoichi
(Gigaphoton Inc.)
NAGASHIMA Takayuki
(Gigaphoton Inc.)
KUROSU Akihiko
(Gigaphoton Inc.)
TSUSHIMA Hiroaki
(Gigaphoton Inc.)
KUMAZAKI Takahito
(Gigaphoton Inc.)
KAKIZAKI Kouji
(Gigaphoton Inc.)
MATSUNAGA Takashi
(Gigaphoton Inc.)
MIZOGUCHI Hakaru
(Gigaphoton Inc.)

資料名:
Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)

巻: 8683  ページ: 86831G.1-86831G.10  発行年: 2013年 
JST資料番号: D0943A  ISSN: 0277-786X  CODEN: PSISDG  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写(コピー)して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写(コピー)は郵送またはFAXでお送りします

※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。