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文献
J-GLOBAL ID：201302290572060830
整理番号：13A1758443
高出力化: 多重パターン形成と450nmウエハリソグラフィーの両方に必要な120W注入同期ArFエキシマレーザ
Power up: 120 Watt injection-locked ArF excimer laser required for both multi-patterning and 450mm wafer lithography
ASAYAMA Takeshi
(Gigaphoton Inc.)
,
SASAKI Yoichi
(Gigaphoton Inc.)
,
NAGASHIMA Takayuki
(Gigaphoton Inc.)
,
KUROSU Akihiko
(Gigaphoton Inc.)
,
TSUSHIMA Hiroaki
(Gigaphoton Inc.)
,
KUMAZAKI Takahito
(Gigaphoton Inc.)
,
KAKIZAKI Kouji
(Gigaphoton Inc.)
,
MATSUNAGA Takashi
(Gigaphoton Inc.)
,
MIZOGUCHI Hakaru
(Gigaphoton Inc.)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 8683 ページ： 86831G.1-86831G.10 発行年： 2013年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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