文献
J-GLOBAL ID:201302291352304726
整理番号:13A0814730
20nm及びそれを超える二重パターニング:設計規則認知スプリッティング
Double Patterning for 20nm and Beyond: Design Rules Aware Splitting
著者 (4件):
DESOUKY Tamer
(Mentor Graphics Egypt, Cairo, EGY)
,
ABERCROMBIE David
(Mentor Graphics, NC, USA)
,
KIM Hojun
(Samsung Electronics Co., Ltd, KOR)
,
CHOI Soohan
(Samsung Electronics Co., Ltd, KOR)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8522
ページ:
852221.1-852221.7
発行年:
2012年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)