文献
J-GLOBAL ID:201302291681913890
整理番号:13A1230477
波長が405nmのファイバ型半導体レーザによるレーザ干渉ナノリソグラフィー
Laser Inteference Nanolithography with a 405nm Fiber Semiconductor Laser
著者 (12件):
XU Jia
(Changchun Univ. Sci. and Technol., Changchun, CHN)
,
WANG Zuobin
(Changchun Univ. Sci. and Technol., Changchun, CHN)
,
WANG Zuobin
(Univ. Bedfordshire, Luton, GBR)
,
WENG Zhankun
(Changchun Univ. Sci. and Technol., Changchun, CHN)
,
LI Zhiming
(Changchun Inst. Optics, Fine Mechanics and Physics, Changchun, CHN)
,
SUN Xiaojuan
(Changchun Inst. Optics, Fine Mechanics and Physics, Changchun, CHN)
,
LIU Lanjiao
(Changchun Univ. Sci. and Technol., Changchun, CHN)
,
ZHAO Le
(Changchun Univ. Sci. and Technol., Changchun, CHN)
,
ZHAO Le
(Univ. Bedfordshire, Luton, GBR)
,
YUE Yong
(Changchun Univ. Sci. and Technol., Changchun, CHN)
,
YUE Yong
(Univ. Bedfordshire, Luton, GBR)
,
ZHANG Jin
資料名:
Key Engineering Materials
(Key Engineering Materials)
巻:
552
ページ:
262-267
発行年:
2013年
JST資料番号:
D0744C
ISSN:
1013-9826
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
スイス (CHE)
言語:
英語 (EN)