文献
J-GLOBAL ID:201302291798385835
整理番号:13A1793619
小型ファブシステムのためのフォトリソグラフィー
Photolithography for Minimal Fab System
著者 (3件):
KHUMPUANG Sommawan
(Nanoelectronics Res. Inst., AIST)
,
MAEKAWA Hitoshi
(Nanoelectronics Res. Inst., AIST)
,
HARA Shiro
(Nanoelectronics Res. Inst., AIST)
資料名:
電気学会論文誌 E
(IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines)
巻:
133
号:
9
ページ:
272-277 (J-STAGE)
発行年:
2013年
JST資料番号:
L3098A
ISSN:
1341-8939
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)