文献
J-GLOBAL ID:201302291918522815
整理番号:13A0153305
超短パルスレーザ・バーストにより照射されたシリコン・ナノ薄膜の原子レベル・モデリング
Atomic-level modeling of a silicon nanofilm irradiated by ultrashort-pulsed laser bursts
著者 (2件):
GAN Yong
(School of Aeronautics and Astronautics, Zhejiang Univ., Hangzhou, Zhejiang 310027, CHN)
,
CHEN J.k.
(Dep. of Mechanical and Aerospace Engineering, Univ. of Missouri, Columbia, MO 65211, USA)
資料名:
International Journal of Thermal Sciences
(International Journal of Thermal Sciences)
巻:
65
ページ:
1-8
発行年:
2013年03月
JST資料番号:
B0246B
ISSN:
1290-0729
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
フランス (FRA)
言語:
英語 (EN)