文献
J-GLOBAL ID:201302293583387414
整理番号:13A1225895
V2O5とHFの溶液中でのケイ素の無電解エッチングの化学量論性
The Stoichiometry of Electroless Silicon Etching in Solutions of V2O5 and HF
著者 (2件):
KOLASINSKI Kurt W.
(West Chester Univ., PA, USA)
,
BARCLAY William B.
(West Chester Univ., PA, USA)
資料名:
Angewandte Chemie. International Edition
(Angewandte Chemie. International Edition)
巻:
52
号:
26
ページ:
6731-6734
発行年:
2013年
JST資料番号:
H0127B
ISSN:
1433-7851
CODEN:
ACIEAY
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)