文献
J-GLOBAL ID:201302293769713869
整理番号:13A1749512
広い範囲への適用を目的とした次世代電子線リソグラフィシステム”F7000”
Next Generation Electron Beam Lithography System “F7000” for Wide Range Applications
著者 (9件):
HAYAKAWA Hirofumi
(Advantest Corp., Saitama, JPN)
,
TAKIZAWA Masahiro
(Advantest Corp., Saitama, JPN)
,
KUROKAWA Masaki
(Advantest Corp., Saitama, JPN)
,
TSUDA Akiyoshi
(Advantest Corp., Saitama, JPN)
,
TAKIGAWA Masami
(Advantest Corp., Saitama, JPN)
,
HAMAGUCHI Shin-ichi
(Advantest Corp., Saitama, JPN)
,
YAMADA Akio
(Advantest Corp., Saitama, JPN)
,
SAKAMOTO Kiichi
(Advantest Corp., Saitama, JPN)
,
NAKAMURA Takayuki
(Advantest Corp., Saitama, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8701
ページ:
870103.1-870103.7
発行年:
2013年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)