文献
J-GLOBAL ID:201302294594352783
整理番号:13A0927969
Nイオンビームにより爆撃したTiO2膜の組成と光学的性質に対する作業圧力の効果
The effect of working pressure on the composition and optical properties of TiO2 films bombarded by N ion beam
著者 (8件):
YAO Tingting
(Dalian Jiaotong Univ., Dalian, CHN)
,
LIU Honglin
(Dalian Jiaotong Univ., Dalian, CHN)
,
DING Wanyu
(Dalian Jiaotong Univ., Dalian, CHN)
,
DING Wanyu
(Liaoning Province Education Dep. Engineering Res. Center of Optoelectronic Materials and Devices, Dalian, CHN)
,
DING Wanyu
(Dalian Univ. Technol., Dalian, CHN)
,
JU Dongying
(Saitama Inst. Technol., Fukaya, JPN)
,
CHAI Weiping
(Dalian Jiaotong Univ., Dalian, CHN)
,
CHAI Weiping
(Liaoning Province Education Dep. Engineering Res. Center of Optoelectronic Materials and Devices, Dalian, CHN)
資料名:
Materials Science Forum
(Materials Science Forum)
巻:
750
ページ:
302-305
発行年:
2013年
JST資料番号:
D0716B
ISSN:
0255-5476
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
スイス (CHE)
言語:
英語 (EN)