文献
J-GLOBAL ID:201302294717885188
整理番号:13A1780882
誘導結合プラズマ源/容量結合したプラズマバイアス反応炉の容量性の電子冷却
Capacitive Electron Cooling in an Inductively Coupled Plasma Source/Capacitively Coupled Plasma Bias Reactor
著者 (3件):
JUN Hyun-Su
(Samsung Electronics, Gyeonggi, KOR)
,
LEE Dong-Seok
(Samsung Electronics, Gyeonggi, KOR)
,
CHANG Hong-Young
(Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Daejeon, KOR)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
52
号:
10,Issue 1
ページ:
100205.1-100205.4
発行年:
2013年10月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)