文献
J-GLOBAL ID:201302296751580895
整理番号:13A1899372
ポリジメチルシロキサンレプリカ成形用のポリテトラフルオロエチレンの直接エッチングに対するプロトンビーム書込みの適用
Application of proton beam writing for the direct etching of polytetrafluoroethylene for polydimethylsiloxane replica molding
著者 (2件):
NISHIKAWA Hiroyuki
(Shibaura Inst. of Technol., 3-7-5 Toyosu, Koto-ku, Tokyo 135-8548, JPN)
,
HOZUMI Takashi
(Shibaura Inst. of Technol., 3-7-5 Toyosu, Koto-ku, Tokyo 135-8548, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻:
31
号:
6
ページ:
06F403-06F403-5
発行年:
2013年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
2166-2746
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)