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文献
J-GLOBAL ID：201302297705295031
整理番号：13A1808839
電子サイクロトロン共鳴スパッタリングによって形成させた窒素-ドープ炭素膜の構造及び電気化学的性能
Structure and Electrochemical Performance of Nitrogen-Doped Carbon Film Formed by Electron Cyclotron Resonance Sputtering
KAMATA Tomoyuki
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
KATO Dai
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
,
HIRONO Shigeru
(MES-Afty Corp., Tokyo, JPN)
,
NIWA Osamu
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Ibaraki, JPN)
資料名：
Analytical Chemistry
(Analytical Chemistry)
巻： 85 号： 20 ページ： 9845-9851 発行年： 2013年10月15日
JST資料番号： A0395A ISSN： 0003-2700 CODEN： ANCHAM 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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