文献
J-GLOBAL ID:201302298165754500
整理番号:13A0055201
QCM(石英結晶微量天秤)に支援されたOCP(開回路電位)測定によるCu無電解析出の実時間観測
Real-Time Observation of Cu Electroless Deposition Using OCP Measurement Assisted by QCM
著者 (5件):
LIM Taeho
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
PARK Kyung Ju
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
KIM Myung Jun
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
KOO Hyo-Chol
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
,
KIM Jae Jeong
(Seoul National Univ., Seoul, KOR)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
159
号:
12
ページ:
D724-D729
発行年:
2012年
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)