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文献
J-GLOBAL ID：201302298364147639
整理番号：13A0487262
深部X線リソグラフィーにより製造された構造の形状に対する現像温度の影響
Influence of developer temperature on the shape of structures fabricated by deep X-ray lithography
HORADE Mitsuhiro
(JST ERATO Higashiyama Live-Holonics Project, Nagoya Univ., Furo-cho, Chikusa-ku, 464-8602, Nagoya, JPN)
,
SUGIYAMA Susumu
(Ritsumeikan Univ., 1-1-1 Noji-Higashi, 525-8577, Kusatsu, Shiga, JPN)
資料名：
Microsystem Technologies
(Microsystem Technologies)
巻： 19 号： 3 ページ： 357-362 発行年： 2013年03月
JST資料番号： W2056A ISSN： 0946-7076 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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