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文献
J-GLOBAL ID：201402207650430455
整理番号：14A0159065
親水性処理により制御されたフォトレジスト多層構造中のミクロピンホール形成
Micro Pinhole Formation in Photoresist Multilayer Structure controlled with Hydrophilic Treatment
NOGUCHI Yuta
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
,
TAKAHASHI Kenta
(Nissan Chemical Ind., LTD., Tokyo, JPN)
,
KAWAI Akira
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 26 号： 6 ページ： 739-744 発行年： 2013年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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