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文献
J-GLOBAL ID:201402207808570330   整理番号:14A0575693

結晶シリコンの表面不動態化に及ぼすオゾンベース原子層堆積AlOxの効果の詳細な研究

Detailed study of the effects of interface properties of ozone-based atomic layer deposited AlOx on the surface passivation of crystalline silicon
著者 (13件):
LEE Hyunju
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
LEE Hyunju
(JST-CREST, Saitama, JPN)
SAWAMOTO Naomi
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
IKENO Norihiro
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
ARAFUNE Koji
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
ARAFUNE Koji
(JST-CREST, Saitama, JPN)
YOSHIDA Haruhiko
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
YOSHIDA Haruhiko
(JST-CREST, Saitama, JPN)
SATOH Shin-ichi
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
SATOH Shin-ichi
(JST-CREST, Saitama, JPN)
CHIKYOW Toyohiro
(National Inst. Matenals Sci., Ibaraki, JPN)
OGURA Atsushi
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
OGURA Atsushi
(JST-CREST, Saitama, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)

巻: 53  号: 4S  ページ: 04ER06.1-04ER06.4  発行年: 2014年04月 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  CODEN: JJAPB6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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