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文献
J-GLOBAL ID：201402207808570330
整理番号：14A0575693
結晶シリコンの表面不動態化に及ぼすオゾンベース原子層堆積AlOxの効果の詳細な研究
Detailed study of the effects of interface properties of ozone-based atomic layer deposited AlOx on the surface passivation of crystalline silicon
LEE Hyunju
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
,
LEE Hyunju
(JST-CREST, Saitama, JPN)
,
SAWAMOTO Naomi
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
,
IKENO Norihiro
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
,
ARAFUNE Koji
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
,
ARAFUNE Koji
(JST-CREST, Saitama, JPN)
,
YOSHIDA Haruhiko
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
,
YOSHIDA Haruhiko
(JST-CREST, Saitama, JPN)
,
SATOH Shin-ichi
(Univ. Hyogo, Hyogo, JPN)
,
SATOH Shin-ichi
(JST-CREST, Saitama, JPN)
,
CHIKYOW Toyohiro
(National Inst. Matenals Sci., Ibaraki, JPN)
,
OGURA Atsushi
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
,
OGURA Atsushi
(JST-CREST, Saitama, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 53 号： 4S ページ： 04ER06.1-04ER06.4 発行年： 2014年04月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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