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文献
J-GLOBAL ID：201402216488957770
整理番号：14A1091129
不平衡マグネトロン(UBM)スパッタリング法で形成した炭素膜の構造と電気化学的特性解析
Structure and electrochemical characterization of carbon films formed by unbalanced magnetron (UBM) sputtering method
KAMATA Tomoyuki
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., 1-1-1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki 305-8566, JPN)
,
KATO Dai
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., 1-1-1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki 305-8566, JPN)
,
IDA Hideo
(Universal Systems Co., Ltd., 606 Minamisakaide Naka, Ibaraki 311-0132, JPN)
,
NIWA Osamu
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., 1-1-1 Higashi, Tsukuba, Ibaraki 305-8566, JPN)
資料名：
Diamond and Related Materials
(Diamond and Related Materials)
巻： 49 ページ： 25-32 発行年： 2014年10月
JST資料番号： W0498A ISSN： 0925-9635 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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