文献
J-GLOBAL ID:201402220862777117
整理番号:14A0622820
イットリウムドープの酸化ハフニウム膜の白金電極上への化学溶液体積
Chemical solution deposition of ferroelectric yttrium-doped hafnium oxide films on platinum electrodes
著者 (5件):
STARSCHICH S.
(Inst. fuer Werkstoffe der Elektrotechnik 2, RWTH Aachen Univ., Sommerfeldstrasse 24, D-52074 Aachen, DEU)
,
GRIESCHE D.
(Inst. fuer Werkstoffe der Elektrotechnik 2, RWTH Aachen Univ., Sommerfeldstrasse 24, D-52074 Aachen, DEU)
,
SCHNELLER T.
(Inst. fuer Werkstoffe der Elektrotechnik 2, RWTH Aachen Univ., Sommerfeldstrasse 24, D-52074 Aachen, DEU)
,
WASER R.
(Inst. fuer Werkstoffe der Elektrotechnik 2, RWTH Aachen Univ., Sommerfeldstrasse 24, D-52074 Aachen, DEU)
,
BOETTGER U.
(Inst. fuer Werkstoffe der Elektrotechnik 2, RWTH Aachen Univ., Sommerfeldstrasse 24, D-52074 Aachen, DEU)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
104
号:
20
ページ:
202903-202903-4
発行年:
2014年05月19日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)