文献
J-GLOBAL ID:201402222524139000
整理番号:14A0511989
14nmノード以降先進Cu BEOLの低k集積における挑戦
Challenges in Low-k Integration of Advanced Cu BEOL Beyond 14nm Node
著者 (1件):
INOUE Naoya
(Renesas Electronics, Kanagawa, JPN)
資料名:
Technical Digest. International Electron Devices Meeting
(Technical Digest. International Electron Devices Meeting)
巻:
2013
ページ:
711-714
発行年:
2013年
JST資料番号:
C0829B
ISSN:
0163-1918
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)