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文献
J-GLOBAL ID：201402222615729838
整理番号：14A0363417
SiN/SiCナノ積層膜中の酸化で誘導された亀裂回復動作
Crack-healing behavior induced by oxidation in SiN/SiC nanolaminated films
NAKATANI Masanori
,
NISHIMURA Junki
,
HANAKI Satoshi
,
UCHIDA Hitoshi
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 556 ページ： 68-73 発行年： 2014年04月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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