文献
J-GLOBAL ID:201402231193807813
整理番号:14A0194537
レーザ結晶化多結晶シリコン薄膜の固相エピタクシーのための洗浄ツールとしてのin situエキシマレーザ照射
In situ excimer laser irradiation as cleaning tool for solid phase epitaxy of laser crystallized polycrystalline silicon thin films
著者 (8件):
HOEGER Ingmar
(Inst. Photonische Technologien, Jena, DEU)
,
SCHMIDT Thomas
(Inst. Photonische Technologien, Jena, DEU)
,
LANDGRAF Anja
(Inst. Photonische Technologien, Jena, DEU)
,
SCHADE Martin
(Martin-Luther-Univ. Halle-Wittenberg, Halle, DEU)
,
GAWLIK Annett
(Inst. Photonische Technologien, Jena, DEU)
,
ANDRAE Gudrun
(Inst. Photonische Technologien, Jena, DEU)
,
LEIPNER Hartmut S.
(Martin-Luther-Univ. Halle-Wittenberg, Halle, DEU)
,
FALK Fritz
(Inst. Photonische Technologien, Jena, DEU)
資料名:
Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science
(Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science)
巻:
210
号:
12
ページ:
2729-2735
発行年:
2013年12月
JST資料番号:
D0774A
ISSN:
1862-6300
CODEN:
PSSABA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)