文献
J-GLOBAL ID:201402232335338502
整理番号:14A1495903
イオンビームアシストスパッタ法によるCo2MnSi薄膜の低温エピタキシャル成長
Low temperature growth of epitaxial Co2MnSi films by ion-beam assisted sputtering
著者 (2件):
植田研二
(名古屋大)
,
浅野秀文
(名古屋大)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
114
号:
234(MR2014 14-22)
ページ:
23-26
発行年:
2014年09月25日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)