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文献
J-GLOBAL ID：201402233467900052
整理番号：14A0610469
磁気光学分光により調べた分子ビームエピタキシー成長Pt/Co/Pt薄膜のGa+照射効果
Effect of Ga+ irradiation in molecular-beam epitaxy grown Pt/Co/Pt thin films studied by magneto-optic spectroscopy
JAKUBISOVA-LISKOVA E.
(Fac. of Mathematics and Physics, Charles Univ., Ke Karlovu 3, 12116 Prague, CZE)
,
VISNOVSKY S.
(Fac. of Mathematics and Physics, Charles Univ., Ke Karlovu 3, 12116 Prague, CZE)
,
WAWRO A.
(Inst. of Physics, Polish Acad. of Sciences, Al. Lotnikow 32/46, 02-668 Warszawa, POL)
,
BACZEWSKI L. T.
(Inst. of Physics, Polish Acad. of Sciences, Al. Lotnikow 32/46, 02-668 Warszawa, POL)
,
MAZALSKI P.
(Univ. of Bialystok, ul. Lipowa 41, 15-424 Bialystok, POL)
,
MAZIEWSKI A.
(Univ. of Bialystok, ul. Lipowa 41, 15-424 Bialystok, POL)
,
LIEDKE M. O.
(Inst. of Radiation Physics, Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Postfach 510119, 01314 Dresden, DEU)
,
MCCORD J.
(Inst. for Materials Sci., Kiel Univ., Kaiserstr. 2, 24143 Kiel, DEU)
,
FASSBENDER J.
(Inst. of Ion Beam Physics and Material Res., Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Postfach 510119, 01314 Dresden, DEU)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 115 号： 17 ページ： 17C106-17C106-3 発行年： 2014年05月07日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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