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文献
J-GLOBAL ID：201402234402941955
整理番号：14A0305063
マスク吸収体高さ最適化によるEUVイメージング増強への実験アプローチ
Experimental Approach to EUV Imaging Enhancement by Mask Absorber Height Optimization
DAVYDOVA Natalia
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
DE KRUIF Robert
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
ROLFF Haiko
(AMTC GmbH & Co. KG, Dresden, DEU)
,
CONNOLLY Brid
(Toppan Photomasks Inc., Dresden, DEU)
,
VAN SETTEN Eelco
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
LAMMERS Ad
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
OORSCHOT Dorothe
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
FUKUGAMI Norihito
(Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN)
,
KODERA Yutaka
(Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 8886 ページ： 88860A.1-88860A.15 発行年： 2013年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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