文献
J-GLOBAL ID:201402234402941955
整理番号:14A0305063
マスク吸収体高さ最適化によるEUVイメージング増強への実験アプローチ
Experimental Approach to EUV Imaging Enhancement by Mask Absorber Height Optimization
著者 (9件):
DAVYDOVA Natalia
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
DE KRUIF Robert
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
ROLFF Haiko
(AMTC GmbH & Co. KG, Dresden, DEU)
,
CONNOLLY Brid
(Toppan Photomasks Inc., Dresden, DEU)
,
VAN SETTEN Eelco
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
LAMMERS Ad
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
OORSCHOT Dorothe
(ASML Netherlands B.V., Veldhoven, NLD)
,
FUKUGAMI Norihito
(Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN)
,
KODERA Yutaka
(Toppan Printing Co., Ltd., Saitama, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8886
ページ:
88860A.1-88860A.15
発行年:
2013年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)