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文献
J-GLOBAL ID：201402236352346743
整理番号：14A1236160
RFスパッターしたβ-FeSi2膜の特性に及ぼす堆積中の温度プログラムの影響
Influence of Temperature Program during Deposition on Properties of RF-Sputtered β-FeSi2 Films
UEMATSU T.
(Kansai Univ., Osaka, JPN)
,
NISHIKAWA Y.
(Kansai Univ., Osaka, JPN)
,
NAKAMURA K.
(Kansai Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Transactions of the Materials Research Society of Japan
(Transactions of the Materials Research Society of Japan)
巻： 39 号： 3 ページ： 353-356 発行年： 2014年09月
JST資料番号： L4468A ISSN： 1382-3469 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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