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文献
J-GLOBAL ID:201402236352346743   整理番号:14A1236160

RFスパッターしたβ-FeSi2膜の特性に及ぼす堆積中の温度プログラムの影響

Influence of Temperature Program during Deposition on Properties of RF-Sputtered β-FeSi2 Films
著者 (3件):
UEMATSU T.
(Kansai Univ., Osaka, JPN)
NISHIKAWA Y.
(Kansai Univ., Osaka, JPN)
NAKAMURA K.
(Kansai Univ., Osaka, JPN)

資料名:
Transactions of the Materials Research Society of Japan  (Transactions of the Materials Research Society of Japan)

巻: 39  号:ページ: 353-356  発行年: 2014年09月 
JST資料番号: L4468A  ISSN: 1382-3469  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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