文献
J-GLOBAL ID:201402243022281862
整理番号:14A0777808
陽子ビーム描画用のレジスト材料 展望
Resist materials for proton beam writing: A review
著者 (3件):
VAN KAN J.a.
(Centre for Ion Beam Applications, Physics Dep., 2 Sci. Drive 3, National Univ. of Singapore, 117542 Singapore, SGP)
,
MALAR P.
(Res. Inst., SRM Univ., Kattankulathur, Chennai 603203, IND)
,
WANG Y.h.
(Centre for Ion Beam Applications, Physics Dep., 2 Sci. Drive 3, National Univ. of Singapore, 117542 Singapore, SGP)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
310
ページ:
100-111
発行年:
2014年08月15日
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)