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文献
J-GLOBAL ID：201402245064702763
整理番号：14A0425981
溶液プラズマプロセスによるグラフェン誘導体に対する溶媒親和性の改善
Improvement of solvent affinity for graphene derivatives by solution plasma process
UCHINO Seiko
(Saga Univ., Saga, JPN)
,
SAKAGUCHI Koichi
(Saga Univ., Saga, JPN)
,
OHTAKE Asami
(Saga Univ., Saga, JPN)
,
TAKISAWA Noboru
(Saga Univ., Saga, JPN)
,
NAKASHIMA Tatsurou
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Saga, JPN)
,
ERA Masanao
(Saga Univ., Saga, JPN)
,
MATSUDA Naoki
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol., Saga, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 53 号： 1S ページ： 01AD05.1-01AD05.4 発行年： 2014年01月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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