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文献
J-GLOBAL ID：201402249587750295
整理番号：14A1099690
液浸ラマン分光法による選択的イオン注入により作製された一軸歪SiGe/Siの異方性2軸応力評価
山本章太郎
(明治大 理工)
,
小瀬村大亮
(明治大 理工)
,
富田基裕
(明治大 理工)
,
富田基裕
(日本学術振興会)
,
武内一真
(明治大 理工)
,
横川凌
(明治大 理工)
,
米倉瑛介
(東京都市大)
,
澤野憲太郎
(東京都市大)
,
野平博司
(東京都市大)
,
小椋厚志
(明治大 理工)
資料名：
応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)
(Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 75th ページ： ROMBUNNO.19A-A16-4 発行年： 2014年09月01日
JST資料番号： Y0055B ISSN： 2758-4704 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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