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文献
J-GLOBAL ID:201402249690722720   整理番号:14A1390422

有機金属気相成長によって成長したInGaN中へのIn混合に及ぼすサファイア窒化とIII族源流量比の影響

Effect of Sapphire Nitridation and Group-III Source Flow Rate Ratio on In-Incorporation Into InGaN Grown by Metalorganic Vapor Phase Epitaxy
著者 (11件):
CHOI J.H.
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
CHOI J.H.
(JST-CREST, JPN)
SHOJIKI K.
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
TANIKAWA T.
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
TANIKAWA T.
(JST-CREST, JPN)
HANADA T.
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
HANADA T.
(JST-CREST, JPN)
KATAYAMA R.
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
KATAYAMA R.
(JST-CREST, JPN)
MATSUOKA T.
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
MATSUOKA T.
(JST-CREST, JPN)

資料名:
Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)

巻: 14  号:ページ: 6112-6115  発行年: 2014年08月 
JST資料番号: W1351A  ISSN: 1533-4880  CODEN: JNNOAR  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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