文献
J-GLOBAL ID:201402254941329776
整理番号:14A0442322
プラズマプロセッシングでの特性インピーダンスを用いた実用的なモニタリングシステム
Note: Practical monitoring system using characteristic impedance measurement during plasma processing
著者 (6件):
MOTOMURA T.
(Measurement Solution Res. Center, National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tosu, Saga 841-0052, JPN)
,
KASASHIMA Y.
(Measurement Solution Res. Center, National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tosu, Saga 841-0052, JPN)
,
FUKUDA O.
(Measurement Solution Res. Center, National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tosu, Saga 841-0052, JPN)
,
UESUGI F.
(Measurement Solution Res. Center, National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tosu, Saga 841-0052, JPN)
,
KURITA H.
(RF Measuring Unit Business Div., ADVANTEST Corp., Ora, Gunma 370-0718, JPN)
,
KIMURA N.
(RF Measuring Unit Business Div., ADVANTEST Corp., Ora, Gunma 370-0718, JPN)
資料名:
Review of Scientific Instruments
(Review of Scientific Instruments)
巻:
85
号:
2
ページ:
026103-026103-3
発行年:
2014年02月
JST資料番号:
D0517A
ISSN:
0034-6748
CODEN:
RSINAK
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)