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文献
J-GLOBAL ID：201402258648024400
整理番号：14A0622756
シリコンのプラズマエッチング過程での表面粗化とリップル形成:数値的研究と実験との比較
Surface roughening and rippling during plasma etching of silicon: Numerical investigations and a comparison with experiments
TSUDA Hirotaka
(Dep. of Aeronautics and Astronautics, Graduate School of Engineering, Kyoto Univ., Kyoto-daigaku Katsura ...)
,
NAKAZAKI Nobuya
(Dep. of Aeronautics and Astronautics, Graduate School of Engineering, Kyoto Univ., Kyoto-daigaku Katsura ...)
,
TAKAO Yoshinori
(Dep. of Aeronautics and Astronautics, Graduate School of Engineering, Kyoto Univ., Kyoto-daigaku Katsura ...)
,
ERIGUCHI Koji
(Dep. of Aeronautics and Astronautics, Graduate School of Engineering, Kyoto Univ., Kyoto-daigaku Katsura ...)
,
ONO Kouichi
(Dep. of Aeronautics and Astronautics, Graduate School of Engineering, Kyoto Univ., Kyoto-daigaku Katsura ...)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 32 号： 3 ページ： 031212-031212-21 発行年： 2014年05月
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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