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文献
J-GLOBAL ID：201402260664399575
整理番号：14A0414759
反応性RFスパッタリング法で作成した非晶質窒化カーボンのDC伝導度の研究
DC electrical conductivity study of amorphous carbon nitride films prepared by reactive RF magnetron sputtering
TAMURA Naoyuki
(National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
,
AONO Masami
(National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
,
HARATA Tomo
(National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
,
KISHIMURA Hiroaki
(National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
,
KITAZAWA Nobuaki
(National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
,
WATANABE Yoshihisa
(National Defense Acad., Kanagawa, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 53 号： 2S ページ： 02BC03.1-02BC03.4 発行年： 2014年02月
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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