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文献
J-GLOBAL ID：201402263256898384
整理番号：14A0442805
SiC(0001)表面上の銅インターカレーションによる単層グラフェンの作製
Fabrication of a single layer graphene by copper intercalation on a SiC(0001) surface
YAGYU Kazuma
(Dep. of Electronics Engineering and Computer Sci., Fukuoka Univ., Fukuoka 814-0180, JPN)
,
TAJIRI Takayuki
(Dep. of Applied Physics, Fukuoka Univ., Fukuoka 814-0180, JPN)
,
KOHNO Atsushi
(Dep. of Applied Physics, Fukuoka Univ., Fukuoka 814-0180, JPN)
,
TAKAHASHI Kazutoshi
(Synchrotron Light Application Center, Saga Univ., 1 Honjo, Saga 840-8502, JPN)
,
TOCHIHARA Hiroshi
(Dep. of Electronics Engineering and Computer Sci., Fukuoka Univ., Fukuoka 814-0180, JPN)
,
TOMOKAGE Hajime
(Dep. of Electronics Engineering and Computer Sci., Fukuoka Univ., Fukuoka 814-0180, JPN)
,
SUZUKI Takayuki
(Dep. of Electronics Engineering and Computer Sci., Fukuoka Univ., Fukuoka 814-0180, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 104 号： 5 ページ： 053115-053115-4 発行年： 2014年02月03日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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