文献
J-GLOBAL ID:201402266178858884
整理番号:13A1951670
プラズマ支援された分子ビームエピタキシャル法による自立した(1100)GaN基板上へ成長した均一なAlGaN/GaN超格子
Homogeneous AlGaN/GaN superlattices grown on free-standing (1100) GaN substrates by plasma-assisted molecular beam epitaxy
著者 (5件):
SHAO Jiayi
(Birck Nanotechnology Center, Purdue Univ., West Lafayette, Indiana 47907, USA)
,
ZAKHAROV Dmitri N.
(Center for Functional Nanomaterials, Brookhaven National Lab., Upton, New York 11973, USA)
,
EDMUNDS Colin
(Physics Dep., Purdue Univ., West Lafayette, Indiana 47907, USA)
,
MALIS Oana
(Birck Nanotechnology Center, Purdue Univ., West Lafayette, Indiana 47907, USA)
,
MANFRA Michael J.
(Birck Nanotechnology Center, Purdue Univ., West Lafayette, Indiana 47907, USA)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
103
号:
23
ページ:
232103-232103-4
発行年:
2013年12月02日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)