文献
J-GLOBAL ID:201402266912849157
整理番号:14A0058919
小さいイオン性ケイ素酸化物クラスタ[SiOn+(n=3,4)]の構造,安定性,および消散 密度汎関数法およびトポロジー探索からの考察
Structure, stability, and dissociation of small ionic silicon oxide clusters [SiOn+(n = 3, 4)]: Insight from density functional and topological exploration
著者 (5件):
SEN Kaushik
(Dep. of Spectroscopy, Indian Assoc. for the Cultivation of Sci., Jadavpur, Kolkata 700032, IND)
,
GHOSH Deepanwita
(Dep. of Spectroscopy, Indian Assoc. for the Cultivation of Sci., Jadavpur, Kolkata 700032, IND)
,
PAKHIRA Srimanta
(Dep. of Spectroscopy, Indian Assoc. for the Cultivation of Sci., Jadavpur, Kolkata 700032, IND)
,
BANU Tahamida
(Dep. of Spectroscopy, Indian Assoc. for the Cultivation of Sci., Jadavpur, Kolkata 700032, IND)
,
DAS Abhijit K.
(Dep. of Spectroscopy, Indian Assoc. for the Cultivation of Sci., Jadavpur, Kolkata 700032, IND)
資料名:
Journal of Chemical Physics
(Journal of Chemical Physics)
巻:
139
号:
23
ページ:
234303-234303-20
発行年:
2013年12月21日
JST資料番号:
C0275A
ISSN:
0021-9606
CODEN:
JCPSA6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)