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文献
J-GLOBAL ID：201402267581830635
整理番号：14A1004557
X線回折(XRD),及び電子後方散乱回折(EBSD)の組み合わせによるNiMnGa薄膜の結晶構造,及び結晶学特定特徴の同定
Identification of crystal structure and crystallographic features of NiMnGa thin films by combination of x-ray diffraction (XRD) and electron backscatter diffraction (EBSD)
YANG Bo
(Northeastern Univ., Shenyang, CHN)
,
YANG Bo
(Univ. Lorraine, Metz, FRA)
,
LI Zongbin
(Northeastern Univ., Shenyang, CHN)
,
LI Zongbin
(Univ. Lorraine, Metz, FRA)
,
ZHANG Yudong
(Univ. Lorraine, Metz, FRA)
,
ESLING Claude
(Univ. Lorraine, Metz, FRA)
,
QIN Gaowu
(Northeastern Univ., Shenyang, CHN)
,
ZHAO Xiang
(Northeastern Univ., Shenyang, CHN)
,
ZUO Liang
(Northeastern Univ., Shenyang, CHN)
資料名：
Materials Science Forum
(Materials Science Forum)
巻： 783/786 号： Pt.3 ページ： 2561-2566 発行年： 2014年
JST資料番号： D0716B ISSN： 0255-5476 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： スイス (CHE) 言語： 英語 (EN)
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