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文献
J-GLOBAL ID：201402269523142551
整理番号：14A0297176
電子とイオンビームの欠陥修復システムでのマスク汚染の研究
Mask contamination study in electron and ion beam repair system
AHN Hyo-Jin
(PKL-Photronics, Choongnam, KOR)
,
KIM Jong-Min
(PKL-Photronics, Choongnam, KOR)
,
LEE Dong-Seok
(PKL-Photronics, Choongnam, KOR)
,
LEE Gyu-Yong
(PKL-Photronics, Choongnam, KOR)
,
LEE Dong-Heok
(PKL-Photronics, Choongnam, KOR)
,
CHOI Sang-Soo
(PKL-Photronics, Choongnam, KOR)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 8880 ページ： 88801T.1-88801T.8 発行年： 2013年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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