文献
J-GLOBAL ID:201402270867636845
整理番号:14A0829291
H2O雰囲気内での反応性スパッタリングによる水素化酸化イットリウム薄膜と酸化チタン薄膜の形成とその電気的性質
Formation of hydrated yttrium oxide and titanium oxide thin films by reactive sputtering in H2O atmosphere and their electrical properties
著者 (6件):
ABE Yoshio
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
,
LI Ning
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
,
NISHIMOTO Kosuke
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
,
KAWAMURA Modori
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
,
KIM Kyung Ho
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
,
SUZUKI Tsutomu
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
53
号:
6
ページ:
068002.1-068002.3
発行年:
2014年06月
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)