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文献
J-GLOBAL ID：201402271972041012
整理番号：14A1181927
シリコン膜におけるナノ細孔の酸化 サブ10nm円形開口の自己制限形成
Oxidation of nanopores in a silicon membrane: self-limiting formation of sub-10 nm circular openings
ZHANG Miao
(KTH Royal Inst. of Technol., Kista-Stockholm, SWE)
,
SCHMIDT Torsten
(KTH Royal Inst. of Technol., Kista-Stockholm, SWE)
,
SANGGHALEH Fatemeh
(KTH Royal Inst. of Technol., Kista-Stockholm, SWE)
,
ROXHED Niclas
(KTH Royal Inst. of Technol., Kista-Stockholm, SWE)
,
SYCHUGOV Ilya
(KTH Royal Inst. of Technol., Kista-Stockholm, SWE)
,
LINNROS Jan
(KTH Royal Inst. of Technol., Kista-Stockholm, SWE)
資料名：
Nanotechnology
(Nanotechnology)
巻： 25 号： 35 ページ： 355302,1-8 発行年： 2014年09月05日
JST資料番号： W0108A ISSN： 0957-4484 CODEN： NNOTER 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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