文献
J-GLOBAL ID:201402272542999596
整理番号:14A0406938
Kirkendall効果に起因した低屈折率の酸化物薄膜
Low-refractive-index oxide thin films originated from the Kirkendall effect
著者 (2件):
CHO Wen-Hao
(National Central Univ., TWN)
,
LEE Cheng-Chung
(National Central Univ., TWN)
資料名:
Applied Optics
(Applied Optics)
巻:
53
号:
4
ページ:
A175-A178
発行年:
2014年02月01日
JST資料番号:
B0026B
ISSN:
1559-128X
CODEN:
APOPAI
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)