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文献
J-GLOBAL ID：201402275481693218
整理番号：13A1238094
陰極真空アークイオンプレーティング法で堆積したTi-Al-Si-N系薄膜のミクロ組織と機械的性質に及ぼすケイ素濃度の影響
EFFECT OF Si CONTENT ON THE MICROSTRUCTURE AND MECHANICAL PROPERTIES OF Ti-A1-Si-N FILMS DEPOSITED BY CATHODIC VACUUM ARC ION PLATING
Shi Jing
(State Key Lab. for Corrosion and Protection, Insititute of Metal Res., Chinese Acad. of Sciences, Shenyang)
,
Pei Zhiliang
(State Key Lab. for Corrosion and Protection, Insititute of Metal Res., Chinese Acad. of Sciences, Shenyang)
,
Gong Jun
(State Key Lab. for Corrosion and Protection, Insititute of Metal Res., Chinese Acad. of Sciences, Shenyang)
,
Sun Chao
(State Key Lab. for Corrosion and Protection, Insititute of Metal Res., Chinese Acad. of Sciences, Shenyang)
,
Muders C M
(Inst. of Materials Engineering, Univ. of Siegen, Germany, Siegen)
,
Jiang Xin
(Inst. of Materials Engineering, Univ. of Siegen, Germany, Siegen)
資料名：
Jinshu Xuebao
(Jinshu Xuebao)
巻： 48 号： 11 ページ： 1349-1356 発行年： 2012年
JST資料番号： B0626A ISSN： 0412-1961 CODEN： CHSPA4 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 中国 (CHN) 言語： 中国語 (ZH)
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