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文献
J-GLOBAL ID:201402288995592628   整理番号:14A1031500

機械的誘起損傷に及ぼすプラズマ化学的気化加工法のGaN除去率の依存性

Dependence of GaN Removal Rate of Plasma Chemical Vaporization Machining on Mechanically Introduced Damage
著者 (9件):
SANO Yasuhisa
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
DOI Toshiro K.
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
KUROKAWA Syuhei
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
AIDA Hideo
(Namiki Precision Jewel Co., Ltd., Tokyo, JPN)
OHNISHI Osamu
(Univ. Miyazaki, Miyazaki, JPN)
UNEDA Michio
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
SHIOZAWA Kousuke
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
OKADA Yu
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
YAMAUCHI Kazuto
(Osaka Univ., Osaka, JPN)

資料名:
Sensors and Materials  (Sensors and Materials)

巻: 26  号:ページ: 429-434  発行年: 2014年 
JST資料番号: L0338A  ISSN: 0914-4935  CODEN: SENMER  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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