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文献
J-GLOBAL ID：201402288995592628
整理番号：14A1031500
機械的誘起損傷に及ぼすプラズマ化学的気化加工法のGaN除去率の依存性
Dependence of GaN Removal Rate of Plasma Chemical Vaporization Machining on Mechanically Introduced Damage
SANO Yasuhisa
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
DOI Toshiro K.
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
KUROKAWA Syuhei
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
AIDA Hideo
(Namiki Precision Jewel Co., Ltd., Tokyo, JPN)
,
OHNISHI Osamu
(Univ. Miyazaki, Miyazaki, JPN)
,
UNEDA Michio
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
SHIOZAWA Kousuke
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
OKADA Yu
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
,
YAMAUCHI Kazuto
(Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Sensors and Materials
(Sensors and Materials)
巻： 26 号： 6 ページ： 429-434 発行年： 2014年
JST資料番号： L0338A ISSN： 0914-4935 CODEN： SENMER 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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