文献
J-GLOBAL ID:201402289080000431
整理番号:14A0511845
原子動力学モンテカルロアプローチを用いたフィン構造中のドーパント拡散及び欠陥の解析
Analysis of Dopant Diffusion and Defects in Fin structure using an Atomistic Kinetic Monte Carlo Approach
著者 (8件):
NODA T.
(Panasonic Corp., Toyama, JPN)
,
KAMBHAM A.K.
(IMEC, Leuven, BEL)
,
KAMBHAM A.K.
(K.U. Leuven, Leuven)
,
VRANCKEN C.
(IMEC, Leuven, BEL)
,
THEAN A.
(IMEC, Leuven, BEL)
,
HORIGUCHI N.
(IMEC, Leuven, BEL)
,
VANDERVORST W.
(IMEC, Leuven, BEL)
,
VANDERVORST W.
(K.U. Leuven, Leuven)
資料名:
Technical Digest. International Electron Devices Meeting
(Technical Digest. International Electron Devices Meeting)
巻:
2013
ページ:
140-143
発行年:
2013年
JST資料番号:
C0829B
ISSN:
0163-1918
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)