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文献
J-GLOBAL ID：201402289726986640
整理番号：14A0552267
如何にしてポストアニールによって損傷結晶の回復を監視することができるか?
How Can We Monitor the Recovery of a Damaged Crystal by the Post Annealing?
NAKAGAWA Sachiko T.
(Graduate School of Sci., Okayama Univ. of Sci.)
,
MURAKAMI Tomoaki
(Graduate School of Sci., Okayama Univ. of Sci.)
,
NOMURA Masakatsu
(Graduate School of Sci., Okayama Univ. of Sci.)
,
KANDA Hisao
(National Inst. for Materials Sci.)
,
SUKEDAI Eiichi
(Graduate School of Sci., Okayama Univ. of Sci.)
,
WHITLOW Harry J.
(Inst. des Microtechnologies Appliquees Arc, Haute-Ecole Arc Ingenierie)
資料名：
電気学会論文誌 C
(IEEJ Transactions on Electronics, Information and Systems)
巻： 134 号： 4 ページ： 479-483 (J-STAGE) 発行年： 2014年
JST資料番号： S0810A ISSN： 0385-4221 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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