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文献
J-GLOBAL ID：201402293631390349
整理番号：14A0926360
高磁場下での銅電着におけるイオン空孔からのマイクロバブル生成
Microbubble Formation from Ionic Vacancies in Copper Electrodeposition under a High Magnetic Field
MIURA Makoto
(Hokkaido Polytechnic Coll., Otaru, JPN)
,
AOGAKI Ryoichi
(Polytechnic Univ., Tokyo, JPN)
,
AOGAKI Ryoichi
(National Inst. of Materials Sci., Ibaraki, JPN)
,
OSHIKIRI Yoshinobu
(Yamagata Coll. of Ind. Technol., Yamagata, JPN)
,
SUGIYAMA Atsushi
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
MORIMOTO Ryoichi
(Saitama Prefectural Showa Water Filtration Plant, Saitama, JPN)
,
MIURA Miki
(Yokohama Harbor Polytechnic Coll., Yokohama, JPN)
,
MOGI Iwao
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
YAMAUCHI Yusuke
(National Inst. of Materials Sci., Ibaraki, JPN)
資料名：
電気化学および工業物理化学
(Electrochemistry)
巻： 82 号： 8 ページ： 654-657 発行年： 2014年08月05日
JST資料番号： G0072A ISSN： 1344-3542 CODEN： EECTFA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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